離子濺射儀常見的應(yīng)用領(lǐng)域
離子濺射儀是一種常用的物**相沉積(PVD)設(shè)備,主要用于表面處理、薄膜沉積以及材料表面分析。其工作原理是通過加速離子束轟擊材料表面,將材料原子從表面濺射出來,這些濺射出的原子或分子可以被沉積到其他物體的表面形成薄膜,或者用來分析材料的成分。
離子濺射儀基本原理
離子濺射儀是一種利用高能離子束轟擊靶材表面,通過物理濺射效應(yīng)沉積薄膜或制備納米級涂層的設(shè)備。其核心基于動量傳遞機制:
1.離子源產(chǎn)生高能離子(如氬離子Ar⁺),加速后轟擊靶材(如金、鉑、碳等)。
2.靶材原子被濺射出來,沉積在基底(如硅片、金屬片、生物樣本)表面形成均勻薄膜。
關(guān)鍵物理過程:
1.離子加速:離子在電場中加速至100eV-10keV能量。
2.動量傳遞:離子與靶材原子碰撞,將能量傳遞給靶材原子,使其脫離晶格。
3.薄膜沉積:濺射出的原子在基底表面擴散、成核并生長為連續(xù)薄膜。
常見的離子濺射儀的應(yīng)用領(lǐng)域包括:
1.薄膜沉積:用于在基底上沉積金屬、氧化物、氮化物等薄膜。
2.表面清洗:通過離子轟擊去除表面污染物和氧化物,提高樣品表面的質(zhì)量。
3.表面改性:改變材料表面的結(jié)構(gòu)或成分,以提高其性能,如硬度、耐腐蝕性等。
4.材料分析:結(jié)合質(zhì)譜或X射線光電子能譜(XPS)等技術(shù)進行材料表面的元素分析。
技術(shù)優(yōu)勢:
1.高純度薄膜:無化學(xué)污染,適合半導(dǎo)體和光學(xué)應(yīng)用。
2.強附著力:離子轟擊促進基底與薄膜界面混合。
3.厚度可控:納米級精度,適合精密器件。
4.適用性廣:可沉積金屬、合金、陶瓷、聚合物等。
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V500礦渣粉的各項性能滿足GB/T 18046中S95級礦渣粉的指標(biāo)要求,V500的原材質(zhì)量嚴格把控,來源穩(wěn)定且具有可追溯性。V500采用現(xiàn)代化大型立式軸壓磨機制備而成,產(chǎn)品顆粒級配分布合理、細度均勻,粒徑主要分布在1-35μm,D5010-12μm,比表面積為430-460m2/kg。截至目前,新加坡昂國集團的V500礦渣粉的年生產(chǎn)能力達1070萬噸其中中國1020萬噸/年,韓國50萬噸/年,為V500實驗專用標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品/樣品的生產(chǎn)提供了保障。
應(yīng)用領(lǐng)域
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